提供增进重叠精确度之多重曝光微影之方法及系统

摘要

本发明揭示一种提供增进重叠精确度的多重曝光微影方法及系统。以本发明的一项观点，多重曝光微影的方法包括：决定与复数个子布局中每一子布局对应的重叠参数；将该重叠参数输入一曝光系统；利用该曝光系统将每一子布局曝光于晶圆上的光阻，其中一指定的子布局曝光之前，利用一对应的重叠参数，对该子布局执行一校正处理，以校正该子布局的一重叠；及所有的子布局曝光后，显影该曝光的光阻。