具有浮动阻隔环的化学机械研磨头

摘要

一种具有浮动阻隔环的化学机械研磨头，包括有一基座、一晶圆边缘压覆环以及一下部组件；该晶圆边缘压覆环固定于该基座上，且于该基座正下方定义出一口袋区域，用来容纳一晶圆，该下部组件经由一隔膜浮动于该口袋区域内。该下部组件包括有一圆形背板，具有复数个开孔分布于该背板的一中心区域内、一箝制环，用来将该隔膜紧锁于该背板的一边缘区域，以及一浮动阻隔环机构，嵌于该背板的该中心区域以及该边缘区域之间，通过一独立的气囊控制；利用本发明可在研磨时提供平整的背板底部，以大幅改善研磨均匀度。

主权项

1.一种用于化学机械研磨的研磨头，其特征是：该研磨头包含有：一基座；一晶圆边缘压覆环，固定于该基座上，其中该晶圆边缘压覆环于该基座正下方定义出一口袋区域，用来容纳一晶圆；以及一下部组件，经由一隔膜浮动于该口袋区域内，该下部组件包含有：一圆形背板，具有复数个开孔分布于该背板的一中心区域内；一箝制环，用来将该隔膜紧锁于该背板的一边缘区域；以及一浮动阻隔环机构，嵌于该背板的该中心区域以及该边缘区域之间；其中当进行一化学机械研磨时，该背板可向该晶圆提供一接近平整的底部以及一均匀的下压力；而当研磨完成时，该浮动阻隔环机构可提供一向下伸出的压环结构，以提升真空吸引。