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发明名称
光阻剥离组合物及清洁组成物
摘要
本发明之光阻剥离组成物至少包括一种如以下式1所示之氧甲基胺化合物:092104880p01.bmp其中R^1至R^3系如说明中之定义。以式7所示之化合物系式1之氧甲基胺化合物之一种,092104880p02.bmp其中R^2至R^5及n系如说明之定义,其为新颖之化合物。
申请公布号
TW200305795
申请公布日期
2003.11.01
申请号
TW092104880
申请日期
2003.03.07
申请人
三菱瓦斯化学股份有限公司
发明人
池本一人;山本良亮;吉田宽史;丸山岳人
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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