发明名称 半导体显示装置
摘要 本发明的目的是提供一种具有中间层绝缘膜的半导体显示装置,此中间层绝缘膜能够获得表面平整性同时控制膜形成时间,能够控制以清除湿气为目的的热处理的处理时间,并能够防止中间层绝缘膜中的湿气释放到邻近中间层绝缘膜的膜或电极。形成了包含氮且比有机树脂更不容易透过湿气的无机绝缘膜,以便覆盖TFT。接着,包含光敏丙烯酸树脂的有机树脂膜被涂敷到有机绝缘膜,且有机树脂膜被局部曝光以便开口。然后,形成包含氮且比有机树脂更不容易透过湿气的无机绝缘膜,以便覆盖开口的有机树脂膜。然后,在有机树脂膜的开口部分中,用蚀刻方法对闸极绝缘膜和二个包含氮的无机绝缘膜层开口,以便暴露TFT的主动层。
申请公布号 TW200306451 申请公布日期 2003.11.16
申请号 TW092107910 申请日期 2003.04.07
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 山崎舜平;早川昌彦;加藤清;纳光明;村上智史
分类号 G02F1/136 主分类号 G02F1/136
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本