发明名称 半导体积体电路装置之制造方法
摘要 本发明可谋求制品品质之稳定化。本发明系于半导体积体电路装置之制造中,对矩阵框架进行树脂铸模成型时,对成型铸模6之下型8之矩阵配置第一行之第一模槽8a与第二行之第二模槽8b,于各个模槽内供给特定量之空气9而加压,藉由以模槽内之封装用树脂10之填充速度于各模槽相同之方式来填充封装用树脂10,可谋求制品品质的稳定化。
申请公布号 TW200308066 申请公布日期 2003.12.16
申请号 TW092101472 申请日期 2003.01.23
申请人 日立制作所股份有限公司;东半导体科技股份有限公司 发明人 仓富 文司;井村健一;村上 文夫;清水 福美;并木胜重
分类号 H01L23/28 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本