| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체 제조를 위한 챔버형 프로세스 모듈에 내장되는 플라즈마 발생소스에 관한 것으로, 고 주파수 전력을 공급하는 알에프(RF : Radio frequency) 전원과, 상기 알에프 전원을 통해 공급된 전류의 임피던스를 정합하는 임피던스 정합장치와, 상기 임피던스 정합장치를 통해 정합된 전류가 인가되어 전자기장을 발생하는 안테나를 각각 포함하는, 복수개의 플라즈마 발생회로로 구성되는 플라즈마 발생소스를 제공하여, 보다 균일한 밀도 분포의 플라즈마를 생성 가능케 한다.</p> |
