发明名称 新颖未饱和衍生物及其当作潜酸的用途
摘要 一种式I,II或III化合物,其中m是0或1;n是1,2或3;R1是一未经取代的或经取代的苯基,或基,基,菲基,一杂芳基,或 C2-C12烯基;R′1是乙烯撑,苯撑,撑,二苯撑或氧二苯撑;R2是CN,C1-C4卤化烷基,C2-C6烷氧基羰基,苯氧基羰基,或苯甲醯基;R3是 C1-C18烷基磺醯基,苯基-C1-C3烷基磺醯基,樟脑醯磺醯基,或苯基磺醯基;R′3是C2-C12烷撑二磺醯基,苯撑二磺醯基,撑二磺醯基,二苯撑二磺醯基,或氧二苯撑二磺醯基;R4和R5是氢,卤素, C1-C8烷基,C1-C6烷氧基,C1-C4卤化烷基,CN,NO2,C2-C6烷醯基,苯甲醯基,苯基,-S-苯基,OR6,SR9,NR7R8,C2- C6烷氧基羰基,或苯氧基羰基;R6是氢,苯基或C1-C12烷基;R7和R8是氢,或C1-C12烷基; R9是C1-C12烷基;R10,R11和R12是 C1-C6烷或苯基;其在照射光时可当作酸产生化合物,因此可适用于光阻剂的应用。
申请公布号 TW575792 申请公布日期 2004.02.11
申请号 TW088111895 申请日期 1999.07.12
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 尚吕克 必尔邦;浅仓俊影;山户仁
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种光酸生成化合物,其为式I、II或III,其中:m是0或1;R1是苯基,其是未经取代的或由C1-C4烷基或OR6取代的;R′1是R3是C1-C4烷基磺醯基;R′3是二苯撑二磺醯基;R4和R5互不相关的分别为氢,C1-C4烷基;R6是C1-C4烷基;其限制为假使m是1,R4和R5两者为氢,及R1是苯基,则R3不是p-甲苯磺醯基。2.如申请专利范围第1项之光酸生成化合物,其为式Ia,其中:R1,R3,R4和R5是如申请专利范围第1项所定义者。3.一种光敏组成物,包括:a)至少一在酸作用下能够交联的化合物,及/或b)至少一在酸作用下可改变溶解度的化合物,及c)当作潜酸光起始剂之至少一如申请专利范围第1项所述之式I,II或III之光酸生成化合物。4.如申请专利范围第3项之光敏组成物,除了成份c)外,其另外包括光起始剂,敏感剂及/或黏着剂。5.一种在酸作用下交联能够被交联的化合物的方法,此方法包括加入如申请专利范围第1项之光酸生成化合物至上述在酸作用下能够被交联的化合物中,然后依据图案,或整个区域以波长范围180-1500nm的光照光。6.如申请专利范围第1项之光酸生成化合物,其是用于制备表面涂覆物、印刷油墨、印刷板、牙医组成物、有色填充剂、光阻物质或影像记录物质、或记录全像的影像记录物质当作光敏感酸供应剂。7.一种光阻剂,包括至少一如申请专利范围第1项之光酸生成化合物当作光敏感酸供应剂。8.如申请专利范围第7项之光阻剂,包括在波长低至180nm区域是透明的聚合物。
地址 瑞士