| 发明名称 | 光致抗蚀共聚物 | ||
| 摘要 | 一种光致抗蚀剂，包括从双环烯衍生物、马来酸酐和/或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物，其聚物分子量范围是3000－100000。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外，该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在TMAH溶液中显影。 | ||
| 申请公布号 | CN1478800A | 申请公布日期 | 2004.03.03 |
| 申请号 | CN03106352.7 | 申请日期 | 1997.12.31 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑载昌;卜喆圭;白基镐 |
| 分类号 | C08F232/08;G03F7/00 | 主分类号 | C08F232/08 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平;王维玉 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀共聚物，包含下式VIII所示的5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯的单体：(式VIII)<img file="A0310635200021.GIF" wi="398" he="290" /> | ||
| 地址 | 韩国京畿道利川市 | ||