发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR AN IMPROVED DEPOSITION SHIELD IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM |
摘要 |
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申请公布号 |
AU2003272031(A1) |
申请公布日期 |
2004.04.19 |
申请号 |
AU20030272031 |
申请日期 |
2003.09.29 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
HIDEHITO SAIGUSA;TAIRA TAKASE;KOUJI MITSUHASHI;HIROYUKI NAKAYAMA |
分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/306;H01L21/3065;H05H1/00;(IPC1-7):H05H1/00 |
主分类号 |
H01J37/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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