薄基板或其类上曝光或形成图案之方法及装置

摘要

本发明关于一曝光一预定图案之装置，及连续或随后移动待曝光基板上之曝光区域。装置包括一装置，以沿发生较大基板厚度变化之特定方向移动基板面积，一装置以侦测基板表面之位移，及一装置以控制基板表面倾斜与高度。倾斜与垂直移动根据侦出之位移而实施。曝光之表面使其与基板表面在曝光期间之任何时间大致上相对应。