发明名称 去除金属氧化物的方法
摘要 本发明系提供一种去除金属氧化物的方法。本发明之方法为以一含有羟胺或羟胺衍生物之溶液,移除一含钛、氟和硫之金属氧化物。上述之金属氧化物系为于钨回蚀制程结束后产生。
申请公布号 TW200501271 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW092117877 申请日期 2003.06.30
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 杨智钧;叶东卿
分类号 H01L21/3213 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号