发明名称 DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE PLAQUETTES DISPOSANT D'UN CIRCUIT D'ISOLATION DU MONITEUR DE CONCENTRATION.
摘要 <P>L'invention concerne un dispositif de nettoyage de plaquettes en matériau semi-conducteur par traitement chimique comprenant un bain chimique (1) adapté pour contenir une solution chimique de nettoyage dans laquelle les plaquettes sont plongées, une pompe de circulation (2) pompant ladite solution chimique dudit bain chimique (1) pour la faire circuler dans un circuit de circulation (3) où elle est filtrée et sa température régulée avant de retourner dans ledit bain chimique (1), un moniteur de concentration (6) apte à surveiller la concentration des différents éléments constituant la solution chimique de nettoyage installé sur ledit circuit de circulation (3), caractérisé en ce qu'il comporte une voie de circulation additionnelle (11) adaptée pour rincer ledit moniteur de concentration (6) sans circulation de solution de rinçage dans ledit bain chimique (1) et dans ledit circuit de circulation (3).</P>
申请公布号 FR2857283(A1) 申请公布日期 2005.01.14
申请号 FR20030008392 申请日期 2003.07.09
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 VIRAVAUX LAURENT;DELATTRE CECILE;PARIENTE BAPTISTE
分类号 B08B3/04;B08B3/08;H01L21/00;(IPC1-7):B08B3/08 主分类号 B08B3/04
代理机构 代理人
主权项
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