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发明名称
微影装置及元件制造之方法
摘要
本发明揭示一种微影装置,其包含:一组态用于调节一辐射光束之照明系统;一构造用于支承一图案化元件之支承件,该图案化元件能够在该辐射光束截面上赋予该辐射光束一图案从而形成一图案化辐射光束;一构造用于夹持一基板之基板平台;一组态用于将该图案化辐射光束投影至该基板一目标部分上之投影系统;及一位于基板位阶处之感测器,其包含一辐射接收元件、一支承该辐射接收元件之透射板及一辐射侦测构件,其中该基板位阶处之感测器设置用于避免该辐射接收元件与该辐射侦测构件之最终元件之间的辐射损失。
申请公布号
TW200513788
申请公布日期
2005.04.16
申请号
TW093124873
申请日期
2004.08.18
申请人
ASML公司
发明人
提姆瑟 法兰西斯 参格;马卡斯 安德纳斯 范 戴 克豪夫;ADRIANUS;马克 克伦;齐斯 范 纬尔特
分类号
G03F7/00
主分类号
G03F7/00
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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