| 主权项 |
1.一种具活动双子槽之水槽结构,包括:一本体,其具有一第一槽体及一第二槽体,该第一槽体及第二槽体底部分别设有一排水孔;一第一子槽,其活动设置于该第二槽体内;一第二子槽,其活动设置于该第二槽体内;以及一活动上盖,系盖置于该第一子槽及第二子槽顶部。2.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该本体系以一隔板区隔形成该第一槽体及该第二槽体。3.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该本体上端向外延伸形成有一体成型之突缘。4.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一槽体及第二槽体分别为一大、一小之槽体。5.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第二槽体上缘形成有一承接部,该第一子槽及第二子槽上端各向外延伸形成有一体成型之突缘,该突缘支撑于该本体之第二槽体上缘的承接部上。6.如申请专利范围第5项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该承接部系呈阶梯状。7.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一子槽底部设有另一排水孔。8.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一子槽及第二子槽系分别设置于该第二槽体内之前半部及后半部。9.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一子槽顶部置放有一置刀架,该置刀架为一开设有多数个置刀槽的架体。10.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第二子槽底部设有复数个漏水孔。11.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第二子槽系枢接有一提把。12.如申请专利范围第1项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该活动上盖包含有一第一盖体及一第二盖体,该第一盖体及该第二盖体系相互枢接,该第一盖体及该第二盖体分别对应于第一子槽及第二子槽。13.如申请专利范围第12项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一盖体及该第二盖体系以转轴相互枢接。14.如申请专利范围第12项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第一盖体系为一平台。15.如申请专利范围第12项所述之具活动双子槽之水槽结构,其中该第二盖体上设有复数个滴水孔。图式简单说明:第一图系习知水槽之立体图。第二图系本创作水槽之立体分解图。第三图系本创作水槽之立体图。第四图系本创作水槽之剖视图。 |
