发明名称 发光二极体之直接冷却
摘要 本发明提供一种用于诸如发光二极体阵列之半导体元件的热管理系统,其系将一冷却介质直接施加于该发光二极体阵列。最好,该冷却介质系一透光流体,可流经该发光二极体阵列且循环流经一系统,以移除该发光二极体阵列所产生的热。最好该冷却介质具有一匹配于该发光二极体阵列之折射系数的折射系数。
申请公布号 TW200534516 申请公布日期 2005.10.16
申请号 TW094108284 申请日期 2005.03.18
申请人 佛塞安科技公司 发明人 马克D 欧温;杜伟恩R 安德森;法兰寇斯 伐屈
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 美国