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发明名称
半导体积体电路装置之制造方法
摘要
本发明提供一种技术,其可由切割胶带剥离安定之晶片。将感压胶带黏贴于形成有积体电路之半导体晶圆电路形成面上,研削半导体晶圆背面,成为特定厚度后(步骤P1~P4),强制氧化半导体晶圆背面(步骤P6)。其后,剥离黏贴于半导体晶圆电路形成面上之感压胶带,并且将切割胶带黏贴于半导体晶圆背面,进而切割半导体晶圆而分割为各晶片后(步骤P8),经由切割胶带挤压晶片背面而自切割胶带剥离晶片(步骤P10)。
申请公布号
TW200534406
申请公布日期
2005.10.16
申请号
TW093138644
申请日期
2004.12.13
申请人
瑞萨科技股份有限公司
发明人
宫崎忠一;阿部由之;植松俊英;木村稔;铃木一成;小田切政雄;须贺秀幸;高田学
分类号
H01L21/52
主分类号
H01L21/52
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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