排气处理剂,排气处理方法,及排气处理装置

摘要

本发明之排气处理剂系粒状、多孔质且部份表面为氢氧化钙之由氧化钙所构成之排气处理剂。表面积最好在1m^2／g以上，空间率为10至50体积％。此氧化钙系将粒状碳酸钙进行焙烧而得；从半导体制造装置所排出之排气若在气体状态下与此排气处理剂接触，排气中之有害气体成分将会与排气处理剂进行反应而去除。