| 发明名称 |
SOLUTION DE POLISSAGE DE BARRIERE |
| 摘要 |
<P>La solution de polissage est utile pour l'élimination préférentielle de matériaux de type barrière en présence de métaux d'interconnexion non ferreux avec une érosion limitée des matériaux diélectriques. La solution de polissage comprend 0 à 20 pour cent en poids d'un oxydant, au moins 0,001 pour cent en poids d'un inhibiteur pour réduire la vitesse d'élimination des métaux d'interconnexion non ferreux, 10 ppb à 4 pour cent en poids d'un agent de complexation, 0 à 50 pour cent en poids d'un abrasif, le reste étant constitué d'eau ; et la solution ayant un pH inférieur à 7.</P>
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| 申请公布号 |
FR2869456(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.28 |
| 申请号 |
FR20050051010 |
申请日期 |
2005.04.20 |
| 申请人 |
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC |
发明人 |
LIU ZHENDONG;QUANCI JOHN;SCHMIDT ROBERT E;TERENCE THOMAS |
| 分类号 |
B24B37/00;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/321 |
主分类号 |
B24B37/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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