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经营范围
发明名称
微奈米光栅之制作方法
摘要
本发明系为一种微奈米光栅之制作方法,其系在于基板上利用隔材制作形成有通路,该通路之前端系间隔成有多个入口,并分别供蚀刻液及隔离液呈间隔交错注入,而控制该等液体之雷诺数小于2100,利用层流〔Laminar〕之特性,使该等间隔之蚀刻液及隔离液不会互相融合,并使每一层之蚀刻液于基板上蚀刻形成光栅线路者。
申请公布号
TW200537129
申请公布日期
2005.11.16
申请号
TW093113377
申请日期
2004.05.13
申请人
远东技术学院
发明人
丁永强;施锡龙
分类号
G02B5/18
主分类号
G02B5/18
代理机构
代理人
李文祯
主权项
地址
台南县新市乡中华路49号
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