发明名称 微奈米光栅之制作方法
摘要 本发明系为一种微奈米光栅之制作方法,其系在于基板上利用隔材制作形成有通路,该通路之前端系间隔成有多个入口,并分别供蚀刻液及隔离液呈间隔交错注入,而控制该等液体之雷诺数小于2100,利用层流〔Laminar〕之特性,使该等间隔之蚀刻液及隔离液不会互相融合,并使每一层之蚀刻液于基板上蚀刻形成光栅线路者。
申请公布号 TW200537129 申请公布日期 2005.11.16
申请号 TW093113377 申请日期 2004.05.13
申请人 远东技术学院 发明人 丁永强;施锡龙
分类号 G02B5/18 主分类号 G02B5/18
代理机构 代理人 李文祯
主权项
地址 台南县新市乡中华路49号