以散射测量法资料决定处理参数値之方法

摘要

本发明揭示一种用于决定处理参数值之方法，其包括使用一光学侦测装置从位于一校准基板上的复数个标记结构组获得校准测量资料。每一标记结构组包括使用处理参数之不同已知值产生的至少一校准标记结构。该方法包括使用该光学侦测装置从位于一基板上并使用该处理参数之一未知值予以曝露的至少一标记结构获得测量资料；并依据该所获得之测量资料，藉由在一基于该处理参数之该等已知值与该校准测量资料的模式中采用回归系数而决定该处理参数之该未知值。