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经营范围
发明名称
浸渍微影技术及产品
摘要
在一种浸渍微影方法中,光阻层(20)具有一屏蔽层(30),以保护该光阻层(20)不因接触该浸渍液而劣化。屏蔽层(30)对于曝光波长透明,并实质上能阻止浸渍液渗入(并较佳不溶于浸渍液)。可使用一种能用显影剂移除之材料形成屏蔽层(30),其中该显影剂与曝光后用于使该光阻层(20)显影之显影剂相同。
申请公布号
TW200538881
申请公布日期
2005.12.01
申请号
TW094104674
申请日期
2005.02.17
申请人
飞思卡尔半导体公司
发明人
凯尔 派特森;史卓鲁斯基 柯克
分类号
G03F7/09
主分类号
G03F7/09
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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