| 摘要 |
一种光罩缺陷侦测系统，其包括第一处理装置、第二处理装置、第三处理装置、及储存装置。该第一处理装置系用以将光罩设计资料转换为第一读写机格式光罩资料，其中该第一处理装置包含第一处理模组。该第二处理装置，其系用以将该光罩设计资料转换为第二读写机格式光罩资料，其中该第二处理装置包含第二处模组，其系为该第一处理模组之不相同相对物。该第三处理装置，其系用以比对该第一读写机格式光罩资料和该第二读写机格式光罩资料，以确认该第一读写机格式光罩资料和该第二读写机格式光罩资料之间是否有差异。该储存装置，其系用以储存该光罩设计资料、该第一读写机格式光罩资料和该第二读写机格式光罩资料。 |
