发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung
摘要 Verfahren zum Herstellen einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Ausbilden einer Gateleitung (112), eines Gateanschlusses (116) und einer Gateelektrode (114) auf einem ersten Substrat (110) im Laufe eines ersten Maskenprozesses; Aufbringen einer Gateisolationsschicht (120), einer amorphen Siliziumschicht (122), einer dotierten amorphen Siliziumschicht (123) und einer metallischen Schicht (124) nacheinander auf dem ersten Substrat (110); Ausbilden einer Datenleitung (144), eines Datenanschlusses (140), einer Sourceelektrode (134), einer Drainelektrode (136), einer aktiven Schicht (132) und einer Gateanschlusspufferstruktur (142) über dem Gateanschluss (116) auf dem ersten Substrat (110), welches die Gateleitung (112), den Gateanschluss (116) und die Gateelektrode (114) aufweist, im Laufe eines zweiten Maskenprozesses; Ausbilden einer Pixelelektrode (146) und einer Datenanschlussstelle (148) auf dem ersten Substrat (110), welches die Datenleitung (144), den Datenanschluss (140), die Sourceelektrode (134) und die Drainelektrode (136) aufweist, im Laufe eines dritten Maskenprozesses; Ausbilden einer Passivierungsschicht (150) auf der gesamten Oberfläche des ersten Substrats (110), welches die Pixelelektrode (146) und die Datenanschlussstelle (148) aufweist; Aneinanderfügen des ersten Substrats (110), welches die Passivierungsschicht (150) aufweist, mit einem zweiten Substrat (164), so dass ein Gateanschlussabschnitt und ein Datenanschlussabschnitt nicht von dem zweiten Substrat (164) bedeckt sind; Zuführen eines Flüssigkristallmaterials in eine Lücke zwischen dem ersten Substrat (110) und dem zweiten Substrat (164); und Entfernen der Passivierungsschicht (150) und der Gateisolationsschicht (120) in dem Gateanschlussabschnitt und dem Datenanschlussabschnitt, welche von dem zweiten Substrat (164) nicht bedeckt sind, so dass der Gateanschluss (116) und der Datenanschluss (140) freigelegt werden, wobei die Gateisolationsschicht (120) unter dem Datenanschluss (140) nicht entfernt wird.
申请公布号 DE10361649(B4) 申请公布日期 2016.10.13
申请号 DE2003161649 申请日期 2003.12.30
申请人 LG Display Co., Ltd. 发明人 Yoo, Soon-Sung;Chang, Youn-Gyoung;Cho, Heung-Lyul;Nam, Seung-Hee
分类号 G02F1/13;G02F1/1345;G02F1/1343;G02F1/136;G02F1/1362;G02F1/1368;G03F7/00;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/77;H01L21/84;H01L27/12;H01L29/786 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项
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