发明名称 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
摘要 [과제] 하전 입자빔을 이용하여, 스테이지의 이동 오차를 저감시켜 복잡하고 미세한 패턴을 형성한다. [해결수단] 하전 입자빔을 발생하는 빔 발생부와, 시료를 탑재하고, 해당 시료를 빔 발생부에 대하여 상대적으로 이동시키는 스테이지부와, 스테이지부의 위치를 검출하는 검출부와, 스테이지부의 검출 위치에 기초하여, 스테이지부의 구동량을 예측한 예측 구동량을 생성하는 예측부와, 예측 구동량에 기초하여, 하전 입자빔을 시료에 조사하는 조사 제어를 행하는 조사 제어부를 구비하는 노광 장치 및 노광 방법을 제공한다.
申请公布号 KR20160127636(A) 申请公布日期 2016.11.04
申请号 KR20160024128 申请日期 2016.02.29
申请人 ADVANTEST CORPORATION 发明人 YAMADA AKIO;SEYAMA MASAHIRO;NASUNO HIDEKI
分类号 G03F7/20;G03F1/20;G03F1/44;G03F1/50 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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