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Vorrichtung zur Reinigung von Halbleiteroberflächen mit einer Reinigungskammer 1, einer Halterung 3 für das Reinigungsgut 2, einer Sprühkammer 4 mit Ultraschall- oder Megaschall-Erzeuger 5 und Wasserzuleitung 8, mindestens einer Zuleitung 9 für ein Reaktivgas und einem Abfluß 10. |
