发明名称 IMPRINT METHOD
摘要 본 발명의 임프린트 방법은, 상기 기판을 유지면 상에 유지하는 유지 단계와, 상기 패턴이 상기 기판 상에 형성되어 있는 기판측 패턴 영역의 형상을 변형시키는 변형 단계와, 변형된 상기 기판측 패턴 영역 상의 수지와 상기 몰드를 접촉시키는 접촉 단계와, 상기 수지를 경화시키는 경화 단계와, 상기 몰드와 접촉되어 있는 상기 수지로부터 상기 몰드를 분리하는 몰드-분리 단계를 포함한다. 여기서, 상기 변형 단계에 있어서는, 상기 기판측 패턴 영역에 대응하는 기판의 이면과 상기 유지면 사이에 작용하는 최대 정지 마찰력보다 큰 변형력이 기판의 표면을 따르는 방향으로 상기 기판에 가해진다.
申请公布号 KR101669389(B1) 申请公布日期 2016.10.25
申请号 KR20160009949 申请日期 2016.01.27
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 나카가와 가즈키;하세가와 노리야스;무라카미 요스케;마츠모토 다카히로
分类号 H01L21/027;G03F7/00;H01L21/324;H01L21/56 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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