| 摘要 |
본 발명은 균일한 싱글 펄스레이저를 제공하는데 사용되는 레이저빔 발생모듈; 싱글 펄스 레이저를 복수개의 서브 펄스 레이저로 분해하는데 사용되는 순환 지연 장치(300); 서브 펄스 레이저를 기판(204)에 집중시키는데 사용되는 광학 모듈; 기판(204)에 적어도 하나의 자유도 변위를 제공하는데 사용되는 운동 스테이지(500)을 포함하는 레이저 어닐링 장치와, 균일한 싱글 펄스 레이저를 제공하는 단계; 싱글 펄스 레이저를 지연 수요 및 에너지 비율에 따라 복수개의 펄스 레이저로 분해하는 단계; 서브 펄스 레이저를 이용하여 기판(204)에 연속적으로 조사하여, 기판(204)의 표면 온도를 소정 범위 내에서 안정적으로 유지시키는 단계를 포함하는 레이저 어닐링 방법에 관한 것이다. 이는 싱글 펄스 레이저를 지연 수요 및 에너지 비율에 따라 복수개의 레이저 펄스로 분해시킬 수 있으며, 이러한 레이저 펄스를 연속적으로 조사할 때 어닐링기간에서의 실리콘 웨이퍼의 표면온도를 용융점 근처 또는 어닐링에 필요한 온도 근처에서 더욱 오래 유지될 수 있도록 함으로써 레이저의 에너지 이용율을 높이고, 어닐링 효과를 개선할 수 있다. |
