发明名称 - PRE-FILL WAFER CLEANING FORMULATION
摘要 충진 동작 전에 기판 표면 상으로의 도포를 위한 사전-충진 용액이 제공되고, 충진 동작은 에칭된 피처 내에 금속성 재료를 디포짓하도록 기판 표면 상으로의 무전해 디포지션 용액의 도포에 의해 규정되고, 기판 표면은 기판 표면 내에 에칭된 피처를 생성하는 에칭 동작으로부터 생성된 금속성 오염물질들을 갖고, 사전-충진 용액은 무전해 디포지션 용액이 금속성 오염물질들 상에 디포짓하는 것을 방지하는데 효과적이고, 사전-충진 용액은: 계면활성제; 옥살산 이수화물; 및 기판 표면 상으로의 도포 동안 용액의 pH를 대략 2 미만으로 감소시키도록 구성된 pH 조정제인 하이포아인산을 포함하고, 계면활성제는 기판 표면의 습식성을 향상시키도록 구성되고, 용액 내의 계면활성제의 농도는 대략 10 ppm 내지 2000 ppm의 범위에 있고, 계면활성제는 양향성 계면활성제이다.
申请公布号 KR20160117227(A) 申请公布日期 2016.10.10
申请号 KR20160035767 申请日期 2016.03.25
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 KOLICS ARTUR
分类号 C11D17/04;C11D1/00;C11D3/06;C11D11/00;H01L21/02 主分类号 C11D17/04
代理机构 代理人
主权项
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