| 发明名称 |
PROCESSING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
<p>PURPOSE:To prevent the anti-voltage deterioration by applying the laser scribe on both surfaces of the wafer.</p> |
| 申请公布号 |
JPS52140275(A) |
申请公布日期 |
1977.11.22 |
| 申请号 |
JP19760056550 |
申请日期 |
1976.05.19 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
MORIYAMA KOUICHI;YAMAMOTO TOSHITAKA;OOTSUKI MINORU |
| 分类号 |
H01L21/301;H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/301 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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