发明名称 PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 PURPOSE:To provide resistance elements of a given value in compact by forming islands of poly-Si on the poly-Si layer over the insualtion film of a substrate through an insulation film and diffusing an impurity.
申请公布号 JPS52154392(A) 申请公布日期 1977.12.22
申请号 JP19760071121 申请日期 1976.06.18
申请人 HITACHI LTD 发明人 SHIMADA SHIGERU
分类号 H01L27/04;H01L21/02;H01L21/822;H01L27/06;H01L29/78 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
主权项
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