摘要 |
L'invention décrit des compositions améliorées (plus souples) pour obtenir des photo-réserves. La composition comprend un photo-sensibilisateur, une matière polymère qui, par l'action d'un rayonnement sur le photo-sensibilisateur, est rendue développable et une matière résineuse colophanique (résine de colophane naturelle ou modifiée). Appliquée en solution et séchée, la composition peut servir à la production de plaques d'impression et pour la gravure et l'attaque sélective de métaux, notamment pour produire des circuits imprimés.
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