发明名称 COMPOSITION DE PHOTO-RESERVE AMELIOREE
摘要 L'invention décrit des compositions améliorées (plus souples) pour obtenir des photo-réserves. La composition comprend un photo-sensibilisateur, une matière polymère qui, par l'action d'un rayonnement sur le photo-sensibilisateur, est rendue développable et une matière résineuse colophanique (résine de colophane naturelle ou modifiée). Appliquée en solution et séchée, la composition peut servir à la production de plaques d'impression et pour la gravure et l'attaque sélective de métaux, notamment pour produire des circuits imprimés.
申请公布号 FR2359437(A1) 申请公布日期 1978.02.17
申请号 FR19770022422 申请日期 1977.07.21
申请人 SHIPLEY CY INC 发明人 MICHAEL J. ODDI
分类号 G03C1/72;G03C1/52;G03F7/023;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):03C1/495;03F7/02;05K3/02 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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