发明名称 Locking assembly and Apparatus for treating substrate with the assembly
摘要 본 발명은 2 이상의 바디를 체결하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지는 챔버, 상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 처리 공간 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛을 포함하되, 상기 가스 공급 유닛은 상기 지지 유닛과 대향되는 샤워 헤드, 상기 샤워 헤드를 지지하는 지지판, 그리고 상기 샤워 헤드 및 상기 지지판을 체결하는 체결 어셈블리를 포함하되, 상기 체결 어셈블리는 상기 지지판을 감싸는 링 형상으로 제공되며, 상기 지지판의 중심축을 중심으로 회전 가능한 체결 바디를 포함한다. 이에 따라 샤워 헤드의 탈착을 신속하게 수행할 수 있다
申请公布号 KR101686564(B1) 申请公布日期 2016.12.15
申请号 KR20150086015 申请日期 2015.06.17
申请人 세메스 주식회사;하나머티리얼즈(주) 发明人 한유동;박진경
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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