发明名称 相分離構造を含む構造体の製造方法、及びパターン形成方法、並びにトップコート材料
摘要 A method of producing a structure containing a phase-separated structure, including forming, on a substrate, a layer containing a block copolymer having a block of a polyhedral oligomeric silsesquioxane structure-containing structural unit; forming a top coat film by applying, to the layer containing the block copolymer, a top coat material which undergoes a change in polarity upon heating, and controls a surface energy of the layer containing the block copolymer; and subjecting the layer containing the block copolymer on which the top coat film is formed to phase separation by thermal annealing.
申请公布号 JP6027912(B2) 申请公布日期 2016.11.16
申请号 JP20130033563 申请日期 2013.02.22
申请人 東京応化工業株式会社;国立大学法人東京工業大学 发明人 松宮 祐;瀬下 武広;大森 克実;宮城 賢;塩野 大寿;宮下 健一郎;黒澤 剛志;早川 晃鏡
分类号 B32B27/00;B05D7/24;B32B27/30;B82Y40/00;C08F220/00;C08J7/00;C09D133/14;C09D153/00;C09D183/04 主分类号 B32B27/00
代理机构 代理人
主权项
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