摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung mit einer Induktionsspule (12; 112), welche zumindest eine erste Spulenwindung (14) und eine zweite Spulenwindung (16) aufweist, wobei die erste Spulenwindung (14) in einer erste Spulenebene (24) liegt und wobei die zweite Spulenwindung (16) in einer zweiten Spulenebene (26) liegt, welche geneigt zur ersten Spulenebene (24) ausgerichtet ist. |