| 发明名称 |
PROCEDE DE CORRECTION DE DEFAUTS DE MASQUES DE PHOTO-LITHOGRAPHIE ET MASQUE OBTENU PAR CE PROCEDE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2553205(B1) |
申请公布日期 |
1985.12.27 |
| 申请号 |
FR19830016027 |
申请日期 |
1983.10.07 |
| 申请人 |
THOMSON CSF |
发明人 |
DOMINIQUE MALGOUYRES ET JEAN-PIERRE SUAT;SUAT JEAN-PIERRE |
| 分类号 |
G03F1/00;(IPC1-7):G03F1/00;G03F9/00;H01L21/308;H01L21/32;H01L21/70 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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