发明名称 新颖羧胺药剂之制法
摘要
申请公布号 TW074253 申请公布日期 1986.02.01
申请号 TW073101026 申请日期 1984.03.16
申请人 汽巴–嘉基股份公司 发明人
分类号 A61K31/435;C07D295/104 主分类号 A61K31/435
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.制造通式IN-(六氢 啶-烷基) 羰胺及其盐之方法: 式中R系羟基,被脂族醇所醚化之羟 基,或卤; Ar1系单环亚芳基或杂亚芳基; alk系亚烷基,以至少C2分离 两个N原子; X系自由或缩酮化羰基,自由烃 亚甲基或被有机羧酸所酯化之羟亚甲 酯,或亚甲基;及 Ar2系单环芳基或杂芳基; 其特征系: (a)使化合物Ⅱa和Ⅱb或其盐如有需 要,于缩合剂存在下温度为由 -20℃至150℃进行缩合而得: 式中X1系羧基,或反应性官能改 质之羧基;或 (b)使化合物Ⅲa和Ⅲb或其盐如有需 要,于盐基之存在下温度为由0℃ 至200℃进行分子间缩合而得: 式中X2系氢;X3及X4中之一 系氢,另一基系-alk-X5,而 X5系反应性酯化羟基;或为制得 式中alk系2-或3-员C2-7亚 烷基之化合物,则式Ⅲa及Ⅲb中 之X2及X3一起系alk'所代表 之2-或3-员C2-7亚烷基; X4系氢; 或如有需要,于盐基存在下温度为 由0℃至200℃使化合物Ⅲc进行 分子内缩合: 式中X5系反应性酯化羟基;或 (c)为制造式中alk系以C2-3分离两 个氮原子之C2-7亚烷基之化合物 I,则如有需要,于盐基存在下温 度为由-20℃至200℃使化合物 Ⅳa和化合物Ⅳb反应: 式中alk'系C2-7亚烷基,以 C2-3分离碳和氮原子;或 (d)在式中之化合物或其盐 式中X7为式-N2 A 之重氮基 ,其中A 系强质子酸之阴离子; 可依水,和脂族醇与卤化物由"煮 沸浓缩酚的方法"温度为由40℃至 120℃进行反应,卤化物为氯化物 ,溴化物,或碘化物,此反应可仿 Sandmeyer,氏反应生成Cu(I) 卤化物,或依照Korner-Contardi 氏反应生成Cu(Ⅱ)-卤化物,或 在铜粉之存在下,依照 Gattermayer氏反应,或导入氟 与氟硼酸或其盐或与对应之五氟矽 酸盐或六氟磷酸盐反应,如有需要 ,将所生成之式I化合物羟基R醚 化,或将生成式I化合物Ar1或 Ar2卤化,或生成之式I化合物羧基 X还原成羟甲基或次甲基X,或有需 要,可将由本方法所获得之盐转变成 单体化合物或不同之盐,及/或将具 有形成盐特性之单体化合物转变为盐 。2.依请求专利部份第1.项之方法,其特 征为,式Ⅱa及Ⅱb化合物或其盐, 其中X1所代表之羧基或卤羰基系选 自起始物质,而缩合作用系受硷缩合 剂,如低烷基胺之影响者。3.依请求专利部份第1. 项之方法,其特 征为,式Ⅲa及Ⅲb化合物,其中 X2为氢,而X3为式-烷基-X5 之基团,X5为卤代,或X2与X3 同为乙烯,X4各自代表氢,或其盐 系选自取代物质,缩合作用即受盐基 之存在而影响者。4.依请求专利部份第1.项之方法 ,其特 征为,式V化合物,其中X7为式 -N2 A 之重氮基而A 为强质子 酸之阴离子,或其盐系选自起始物质 ,与氟硼酸或其盐或与对应之五氟矽 酸盐成六氟磷酸盐反应,生成式I化 合物,其中R为氟者。5.依请求专利部份第1.项之方 法,其特 征在于,式V化合物,其中X7为式 -N2 A 之重氮基而A 为强质子 酸之阴离子,或其盐系选自起始物质 ,并与低烷醇反应生成式I化合物, 其中R为低烷氧基。6.依请求专利部份第1.至5.项任 意一项 之方法,其特征为,选自式Ⅱa及 Ⅱb,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅳa及 Ⅳb,或V之化合物为起始物,其中 X1,X2,X3,X4,X5,X7 及alk同第1至5任意一项所定义, 故所得化合物I及其盐式中一方面R 系低级烷氧基或卤及Ar1系未被取代 或被低级烷基,卤-低级烷基,羟基 ,卤,低级烷氧基,氰基,胺基甲醯 ,低级烷氧羰基,氨基,低级烷胺基 ,二-低级烷胺基,氨磺醯,N,N -二-低级烷氨磺醯,低级烷硫基, 低级烷亚磺醯及/或低级烷磺醯单- 或多-取代之亚苯基;或另一方面R 系低级烷氧基及Ar1系未被取代或被 低级烷氧基取代之亚 啶基;及各情 形内Alk系C2-7亚烷基,以C2-3 分离两个氮原子,X系羰基,羟亚甲 基或亚甲基及Ar2系被卤取代之苯基 或未被取代之 嗯基者。7.依请求专利部份第1.至5. 项任意一项 之方法,其特征为选自式Ⅱa及Ⅱb ,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅳa及Ⅳb或 V之化合物为起始物,其中X1,X2 ,X3,X4,X5,X7及alk同 第1至5任意一项所定义,故所得化 合物I及其盐,式中R-Ar1基系如 式Ib所示: 式中Ra及Rc中之一系R所代表之 低级烷氧基或卤,另一基系氢,低级 烷基,卤或低级烷胺基,Rb,Rd 及Re各自独立,系氢,低级烷基, 卤-低级烷基,羟基,卤,低级烷氧 基,氰基,胺基甲醯,低级烷氧羰基 ,胺基,氨磺醯,N,N-二-低级 烷氨磺醯,低级烷硫基,低级烷亚磺 醯及/或低级烷磺醯。alk系C2-4 亚烷基,以C2-3分离两个N原子; X系羰基,羟亚甲基或亚甲基;Ar2 系被卤取代之苯基,或未被取代之 嗯基者。8.依请求专利部份第1.至5.项任意一项 之方法,其特征为选自式Ⅱa及 Ⅱb,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅳa及 Ⅳb,或V之化合物为起始物,其中 X1,X2,X3,X4,X5,X7 及alk同第1至5任意一项所定义, 故所得化合物I及其盐,式中R-Ar1 基如式Ib所示,一方面Ra系R所 代表之C1-4低级烷氧基;Rb及 Re系氢,Rc系C1-4低级烷氨基 ,Rd系原子序至35之卤,或Re 系氢或原子序至35之卤及Rd系氰 基;或另一方面Ra,Rd及Re系 氢,Rb系原子序至35之卤,及 Rc系R所代表之C1-4低级烷氧基 ;alk系亚乙基,X系羰基或羟亚甲 基,及Ar2系4-氟苯基者。9.依请求专利部份第1.项至 5.项任意一 项之方法,其特征为选自式Ⅱa及 Ⅱb,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅳa及 Ⅳb,或V之化合物为起始物质,其 中X1,X2,X3,X4,X5及 X7及alk同第1至5任一项所定义 ,故所得化合物I及其盐,式中 R-Ar1基如式Ib所示,其中Ra 系R所代表之C1-4低级烷氧基, Rb,Rc及Re系氢及Rd系氰基 ;alk系亚乙基,X系羰基及Ar系 4-氟苯基者。10.依请求专利部份第1.至5.项任意一 项 之方法,其特征为,选自式Ⅱa及 Ⅱb,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅳa及 Ⅳb,或V之化合物为起始物,其中 X1,X2,X3,X4,X5, X7及alk同第1至5任一项所定义 ,故产物为5-氰基-N-[2-[ 4-(对-氟苯醯)-六氢 啶]乙 基]-2-甲基-苯醯胺或其盐。11.依请求专利部份第1. 至5.项任意一项 之方法,其特征为,选自式Ⅱa及 Ⅱb,Ⅲa及Ⅲb,Ⅲc,Ⅲa,及 Ⅳb,或V之化合物为起始物,其中 X1,X2,X3,X4,X5, X7及alk同第1至5任一项所定义 ,故产物为4-氟-N-[2-[4 -(对-氟苯醯)-六氢 啶]-乙 基]-苯醯胺或其盐。
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