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Installation de traitement (10), permettant le transport et le traitement de tranches de silicium (18) dans des conditions de double flottement dans un passage en forme de tunnel (16), entre un bloc supérieur (12) et un bloc inférieur (14). La paroi du tunnel se compose principalement d'une pluralité d'évidements (20) où s'étendent des canaux d'alimentation (32), ces évidements (20) étant situés à côté de canaux de décharge (26). |
