发明名称 フォトレジストでパターンを形成した曲面体の製造方法及び露光装置
摘要 【課題】曲げ加工済みの多様な曲率の曲面体に直接且つ精度よく遮光膜を形成する製造方法を提供する。【解決手段】湾曲可能なフィルム状フォトマスク7及び陰圧形成用フィルム2との間に、フォトレジストを塗布した曲面体8を挿入する挿入工程、吸引ポンプ3により、前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7及び前記陰圧形成用フィルム2で形成された空間の空気を吸引することで、前記曲面体8のフォトレジストを塗布した面に前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7を密着し、前記曲面体8の他方の面に前記陰圧形成用フィルム2を密着する密着工程、前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7を介して前記曲面体に塗布されているフォトレジストを露光する露光工程、露光した前記曲面体8を現像し、余分なフォトレジストを除去する現像工程、を含む、フォトレジストでパターンを形成した曲面体の製造方法。【選択図】図2
申请公布号 JP6033477(B1) 申请公布日期 2016.11.30
申请号 JP20160001399 申请日期 2016.01.06
申请人 テクノアルファ株式会社;株式会社大日本科研 发明人 青島 勉;金田 晶;田宮 勝;岡本 光三;田中 篤;島田 崇司;都 覚;初代 利之
分类号 G03F7/24;G03F7/09 主分类号 G03F7/24
代理机构 代理人
主权项
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