| 摘要 |
지지체와 레지스트막 사이에 형성되는 표면 개질층을 형성하기 위한, 질량 평균 분자량이 1000 ∼ 50000 인 에폭시 수지를 함유하는 표면 개질 재료 ; 지지체 상에, 당해 표면 개질 재료를 사용하여 표면 개질층을 형성하는 공정과, 상기 표면 개질층이 형성된 상기 지지체 상에, 레지스트 조성물을 사용하여 레지스트막을 형성하는 공정과, 상기 레지스트막을 노광하는 공정과, 상기 레지스트막을 알칼리 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 레지스트 패턴 형성 방법 ; 및 상기 레지스트 패턴 형성 방법에 의해 레지스트 패턴이 형성된 지지체에 대하여 에칭 처리를 실시하는 공정을 포함하는 패턴 형성 방법. |
