| 主权项 |
1.一种气体加压分配容器用之分配装置,包括有一阀门,一阀门引动器及一流量调整器,其中,流量调整器包括有一外壳反外壳内之一隔膜,该隔膜有一通道口并形成一流动通路,由于通道口之收缩,对流动产生抗阻力,而隔膜具有弹性变形,由于隔膜间之压力差不同,使通道口之收缩所产生之抗阻力亦有变化,因此,在使用具有一定加压气体之容器分配一产品时,由于气压减少而使流量率下降之趋势,可由流量调整器之抗阻力减少而使流量率增加之趋势,至少获得部份补偿。2.如第1.项请求专利部份第述之装置,其中,调整器之最小抗阻力大于该装置之其他部份总抗阻力。3.如第1.项或第2.项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,隔膜之一下流面可与外壳之一环形座配合操作,其中面及座之一设有内隙,而另一面台座为平面,同时,在足够之压力差下,隔膜可以变形以适应面及座间之接触。4.如第3.项请求守利部份第述之装置,其中,座为平面,而隔膜之下流面设有内隙。5.如上述各项中任一项请求专利部份所述之装置,紧接在隔膜之上流包括有一外壳室,使流动通道之横断面局部扩大,故隔膜之大部份上流面可曝露在流动压力下。6.如上述各项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,外壳与引动器形成一整体。7.如上述各项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,外壳与阀门形成一整体。8.如第1.项至第5.项中任一项请求专利部份所述之装置,包括有一汲管,该管之下端在使用时是浸在需要分配之产品内,其中,外壳位于汲管之下端。9.如第1.项至第5.项中任一项请求专利部份所述之装置,包括有一汲管,其第一部份与位于下端之外壳靠在阀门上,而其第二部份靠在于使用时浸入需要分配之产品内之外壳部份。10.如上述各项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,隔膜在其上流面邻近设有一环状突缘,并对流动通道轴在径向伸延。11.如第10.项请求专利部份所述之装置,其中,隔膜之上流面上有一平面部份并包括在轴向伸长之突出部份,因此,当隔膜之上流面与一平支撑面相接时,其平面部份与该支撑面保持一定间隙。12.如第11.项请求专利部份第述之装置,其中,突出部份为一环状突缘。13.如第12.项请求专利部份所述之装置,其中,未变形隔膜之下流面有一内隙,当隔膜之下流面与一平支撑面相接时,下流面之一环状平面部份与支撑面相接触,不论下流面之上流情况如何,隔膜及支撑面间之接触面积实质上均相同。14.如第10.项至第13.项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,外壳包括有一径向伸延之环状内隙,以容纳隔膜之环状突缘。15.如第10.项至第13.项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,隔膜包括有一环状平面部份之下流面,而外壳包括有一配合操作之环状座,流动通道轴同时贯穿两环状平面部份及座,因而,当流动产生时,隔膜被迫与外壳座产生密封之接合,使流体之流动唯布穿过隔膜之通道口。16.如上述任何一项请求专利部份所述之装置,其中,外壳包括有旁道构件,在容器灌装期间,当流动方向反转时,容许在旁道中流动,以越过隔膜。17.如第16.项请求专利部份所述之分配装置,其中,旁道构件包含有隔膜之径向外表面及外壳间之轴向伸延通道。18.如第17.项请求专利部份所述之分配装置,其中,各通道或至少通道之一是由外壳向内突出并在轴向伸长之肋条间所构成。19.如第17.项请求专利部份所述之鈖配装置,并包括第10.项请求专利部份所述之突缘,其中,各通道或至少通道之一是由隔膜之突缘内之压痕所构成。20.一加压分配容器包括有上述任何一项请求专利部份所述之装置。21.一加压分配容器包括有第1.项至第19.项中任一项请求专利部份所述之装置,其中,容器为隔间型或复式隔间型,在各隔间内,加压气体分别与需要分配之产品或各产品分开,因此,任何此种产品均可加压至气体压力,但并不互相混合。22.如第20.项或第21.项请求专利部份所述之分配器,其中,所用气体为氮气。23.一气体加压分配容器用之分配装置,包括有一阀门,一阀门引动器及一流量调整器,其中,流量调整器包括有一具有构成成流动通路之通道口隔膜,由于通道口之收缩,对流动产生抗阻力,而隔膜具有弹性变形,由于隔膜间之压力差不同,使通道口之收缩所产生之抗阻力亦有变化,因此,在使用中之流量率变化,不会超过在整个30至150每平方寸磅之分配气体压力内之10%。24.上述之分配装置,主要是参照所附任一张图例予以说明。 |
