PHOTOIMAGING PROCESSES AND COMPOSITIONS.

摘要

Le procédé de formation en gradin-sur-tranche, connu également sous le nom de procédé d'alignement de formation répétée en gradin, pour la production de microcircuits à intégration en très grande échelle (VLSI) avec des interconnexions multicouches, est grandement facilité en incorporant dans au moins la première couche de photoréserve un colorant qui remplit certains critères dont le principal est d'être transparent au rayonnement auquel le système de photoréserve est sensible et d'absorber le rayonnement d'une longueur d'onde à laquelle le système de photoréserve n'est pas sensible. L'utilisation de systèmes de photoréserve en association avec de tels colorants possède des avantages supplémentaires. Par exemple, l'épaisseur d'une couche de photoréserve déposée sur un substrat peut être contrôlée avant la mise en image sans activation de la photoréserve.