多源型平面磁控溅射源

摘要

一种多源型不面磁控溅射源，其磁场源由一个固定的外磁组件、一个或多个可作旋转运动的内磁组件6构成，溅射靶板8由若干个可拆换的异质扇形单元靶拼成，溅射靶板8的上方有一个开有扇形窗口、能同内磁组件6作同步运动的挡板25。该溅射源具有共溅沉积合金膜、沉积多层膜或沉积单质薄膜等功能。沉积多层膜时靶材利用率达75％以上；共溅沉积合金膜时，靶材利用率达85％以上，膜层成份配比精确度高、厚度均匀性好。

主权项

1.一种多源型平面磁控溅射源，包括磁场源、溅射靶、水冷器、挡板及屏蔽罩，其特征在于：—磁场源由固定的外磁组件和可绕轴转动的内磁组件6构成，其中，外磁组件包括环状下极靴2，环状磁体3，环状上极靴4及反向磁体5，内磁组件6包括扇形极靴i，V形磁体ii和扇形磁体iii。—溅射靶板8由多个异质扇形板拼装而成。—内磁组件6设置于水冷器中，且冷却水优先进入内磁组件6，并从内磁组件6顶部溢出。—挡板25设置在溅射靶板8的上方，并在对应于内磁组件6的位置开有一个或多个扇形窗口，该挡板25可与内磁组件6作同步转动或摆动。