Maskenrohling, Phasenverschiebungsmaske und Verfahren zur Herstellung derselben

摘要

Die vorliegende Erfindung stellt einen Maskenrohling bereit, der Folgendes umfasst: ein transparentes Substrat, eine halbtransparente Schicht zum Steuern einer Phase und einer Transmittanz des Belichtungslichts, die auf dem transparenten Substrat ausgebildet ist, eine Mittelschicht, die auf der halbtransparenten Schicht ausgebildet ist, und eine lichtabschirmende Schicht, die auf der Mittelschicht ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtabschirmende Schicht aus einem Einzelmetallmaterial besteht, das kein Übergangsmetall umfasst; dass eine Filmdicke der lichtabschirmenden Schicht 40 nm oder weniger beträgt; und dass eine optische Dichte eines Laminatkörpers, in welchem drei Arten von Schichten: die halbtransparente Schicht, die Mittelschicht und die lichtabschirmende Schicht laminiert sind, in Bezug auf das Belichtungslicht ein Wert ist, der so groß ist, dass der Laminatkörper als lichtabschirmende Region oder mehr fungiert; wobei der Maskenrohling zum Herstellen einer Halbtontyp-Phasenverschiebungsmaske verwendet wird und geeignet ist für eine Lithographietechnik auf einem Wafer mit einem halben Abstand von 40 nm und mehr, nämlich aufgrund seiner hohen Lichtabschirmungseigenschaft trotz eines dünneren lichtabschirmenden Musterfilms, seiner Fähigkeit, den EMF-Kantenversatzwert zu verringern, und seiner hervorragenden Eigenschaften hinsichtlich der Musterverarbeitbarkeit, seiner Lichtabschirmungseigenschaft und chemischen Beständigkeit.