| 主权项 |
1.光扫描辐射一反射资讯表面之装置,此装置包括有供应扫描光束之二极体雷射,使扫描光束聚焦以在资讯平面上产生扫描光点,以及使扫描光点在合成辐射敏侦检装置上再显像之物镜装置,及合成绕射元件,此元件配置于二极体雷射和物镜装置之间之辐射经路上,用以使由资讯表面反射之辐射光束偏向至辐射数侦检装置,及使此光束分裂成为若干分光束,以存合成侦检装置相对应之若干侦检器对上生相对应之若干辐射光点,其特点为,如扫描光束系依最佳适方式聚焦于资讯平面上时对于每一侦检器对,两侦检器之隔离片系依循与连接二极体雷射辐射一发射表面中心与相关侦检器对上所产生辐射光点之强度分布中心所在位置之线所成之锐角伸展。2.根据上述申请专利范围第1项所述之装置,其特点为各分光栅具有变化之光栅周期,其光栅片系弯曲的。3.根据上述申请专利范围第1或2项所述之装置,其中,绕射元件系由两分光栅所构成,其中一分光栅之光栅片之方向系与另一分光栅者相同,其光栅周期则不相同,又其中各侦检器对系在与各分光栅间之隔离线相平行方向并置,其特点为各侦检器对依相反角度伸展至所述连接线上。4.根据上述申请专利范围第1或2项所述之装置,其中,绕射元件系由光栅周期相同之两分光栅所构成,第一分光栅之光栅片系依第一角度伸展,而第二分光栅之光栅片系依第二角度伸展(此角度与第一角度相等但相反)至两分光栅之隔离线上,其中侦检器对系依与所述隔离线之方向相横切之方向并置,其特点为各侦检器对之隔离片系依大小相等但相反之角度伸展至所述连接线上。图示简单说明:图1所示为设有绕射光栅之读取装置之实施例图解,图2所示为绕射光栅及其相关之侦检装置第一实施例之透视图,图3a和3b所示为发生聚焦误差时,侦检器上辐射光点变化情形,图4a、4b、4c所示为扫描光束发主波长变化时,分光束变化情形,图5所示为光二极体对上所产生辐射光点,由于此等变化所引起之变化情形,图6所示为根据本发明,与绕射光栅相关连之辐射敏侦检装置,图7所示为螃射光栅和相关连辐射敏侦捡装置之第二实施例,图8a和8b所示为发生聚焦误差时,光二极体上辐射光点变化情形,图9所示为光二极体对上,由于扫描光束波长变化所产生之辐射光点变化情形,及图10所示为根据本发明,与绕射光栅第二实施例相关连之辐射敏侦检装置。 |
