发明名称 在一表面上形成具有控制之光学厚度的二氧化钛薄膜的方法
摘要
申请公布号 TW118585 申请公布日期 1989.09.11
申请号 TW075100167 申请日期 1986.01.16
申请人 麦克专利有限公司 发明人 森田嘉南
分类号 B05D5/06 主分类号 B05D5/06
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 l.在一表面上形成具有控制之光学厚度的二氧化钛薄膜的方法,其包括下列步骤:(a)预处理步骤,其中,欲被涂覆之表面在酸性水溶液以及钛离子浓度为10-5至10-2莫耳/升之水溶性钛酯或钛盐中加热,因而,在表面上形成一淀积物;和/或将此表面浸渍于含有至少一元素选自于亚铁,铁亚鍚和锡所组成之族之水溶液中,其可任意地包括多元醇类;(b)至少一薄膜生成步骤,其中,由a)中所制得之淀积物浸渍于75℃以上之每升中含有至少莫耳钛而酸对钛之莫耳比在5-200范围内之酸性溶液中;(c)在步(a)和(b)之间一任意的核晶步骤,其中,经预处理之表面被浸渍于含有至少0.1毫莫耳钛/升之钛酯和/或钛盐的酸性水溶液中,随之,于300℃以上烘焙之。2.依申请专利范围第1项所请之方法,其中,预处理步骤是在含有氯化铁和氯化亚铁以及多醇的溶液中进行。3.依申请专利范围第1项所请之方法,其中,两种可能的预处理步骤结合为单一步骤之方法。4.依申请专利范围第1项所请之方法,其中,薄膜生成步骤系进行一次以上。5.依申请专利范围第1项所请之方法,于其中,二氧钛薄膜系形成于云母薄片上。6.依申请专利范围第1项所请之方法,其中,烘焙系任意地在薄膜生成之前和/或之后进行。7.依申请专利范围第1,2,3,4,5或6项之方法涂覆以二氧化钛薄膜的物件。
地址 德国