发明名称 分子ビーム支援GCIB処理
摘要 様々な材料のガスクラスターイオンビーム(GCIB)エッチング処置を行うための方法及びシステムを説明する。具体的には、GCIBエッチング処理は、イオンビームの局所領域の圧力を最適化するために1つ以上の分子ビームを用いることを含む。
申请公布号 JP2016539469(A) 申请公布日期 2016.12.15
申请号 JP20160533141 申请日期 2014.11.21
申请人 ティーイーエル エピオン インコーポレイテッド 发明人 グウィン,マシュー シー
分类号 H01J37/305;H01J27/20;H01J37/08;H01L21/302 主分类号 H01J37/305
代理机构 代理人
主权项
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