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发明名称
分子ビーム支援GCIB処理
摘要
様々な材料のガスクラスターイオンビーム(GCIB)エッチング処置を行うための方法及びシステムを説明する。具体的には、GCIBエッチング処理は、イオンビームの局所領域の圧力を最適化するために1つ以上の分子ビームを用いることを含む。
申请公布号
JP2016539469(A)
申请公布日期
2016.12.15
申请号
JP20160533141
申请日期
2014.11.21
申请人
ティーイーエル エピオン インコーポレイテッド
发明人
グウィン,マシュー シー
分类号
H01J37/305;H01J27/20;H01J37/08;H01L21/302
主分类号
H01J37/305
代理机构
代理人
主权项
地址
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