| 摘要 |
Méthode de chauffage d'un corps, par exemple tranche de semiconducteur (4) dans un four (1), dont la température est réglée par un pyromètre optique (8) dirigé vers une surface émettrice de rayonnements de ladite tranche (4). Cette méthode comprend le dépôt d'une structure en couches (10) d'une certaine quantité d'émittance sur ladite surface, de manière à ce qu'une répartition uniforme des rayonnements thermiques à travers la structure soit fournie à la sortie du pyromètre (8). La couche (10) peut être en titane ou, de préférence, si elle doit être éliminée, en carbone. |
