| 主权项 |
1﹒一种经由暴露同步之次级线圈于受控制之体积的铁磁材料而控制沿着径迹移动之附着有一同步线性马达次级线圈之支架移动的方法。2﹒根据申请专利范围第1项之方法在其中,受控制体积铁磁材料是固体。3﹒根据申请专利范围第1项之方法在其中,受控制体积的铁磁材料包含:具有各绝缘层放置在其中间之各层的铁磁材料,而使各层之铁磁材料与支架行程的方向相对准。4﹒根据申请专利范围第1项之方法包括下列步骤即:设置与支架上之次级线圈相间隔之线性马达初级线圈,以及在其中,受控制之体积是在初级线圈之引导端上,又该受控制之体积,在支架行程的方向而增加。5﹒根据申请专利范围第1项之方法包括下列步骤即:设置一线性马达初级线圈接邻支架上之次级线圈,以及在其中,受控制之体积是在初级线圈之尾端上,又该受控制之体积,在支架行程的方向而减少。6﹒根据申请专利范围第4项之方法在其中,受控制之体积是在支架行程之方向,具有增加之表面面积。7﹒根据申请专利范围第5项之方法在其中,受控制之体积是在支架行程之方向,具有减小之表面面积。8﹒根据申请专利范围第4项之方法在其中,受控制体积铁材料与线性马达次级线圈间之间隔,在支架行程之方向正减小。9﹒根据申请专利范围第5项之方法在其中,受控制体积之数围材料与线性马达次级线圈间之间隔,在支架行程之方向正增加。10﹒根据申请专利范围第8项之方法在其中,,受控制之体积是在支架行程之方向,具有增加之表面面体。11﹒根据申请专利范围第9项之方法在其中,,受控制之体积是在支架行程之方向,具有减小之表面面积。12﹒一种控制沿着延伸之径迹而输送移动之附着有同步线性马达次级线圈之支架移动的方法,包括下列各步骤:经由一种推动工具,推动支架在沿着径迹之两个不连续部份上;经由暴露同步之次级线圈至与次级线圈相间隔之受控制体积之铁磁材料中而推进支架在各不连续部份之间,在其中,受控制之体积,在行程之方向,首先增加,然后减少。13﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,受控制体积的铁磁材料是固体。14﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,受控制体积之铁磁材料包含:具有各绝缘层放置在其中间之各层的铁磁材料,而使各层之铁磁材料与支架行程的方向相对准。15﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,增加之受控制体积自一部份延伸至另一部份及减少之受控制体积则沿着支架行程之方向的其他部份而延伸。16﹒根据申请专利范围第14项之方法在其中,受控制之体积具有被暴露于次级线圈之一个改变之表面面积。17﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,受控制之体积,与次级线圈相间隔以一段改变之距离。18﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,受控制之体积具有一个改变之表面面积,此面积与次级线圈相间隔以一段改变之距离。19﹒根据申请专利范围第12项之方法在其中,推进工具是一具迟滞性线性马达。20﹒一种用以推进同步之线性马达次级线圈之线性马达初级线圈,在其中,初级线圈的各终端是楔形。21﹒根据申请专利范围第20项之线性马达初级线圈在其中,楔形之终端是被层合在非导电之材料层之间的多层铁磁材料。图示简单说明图1及1A是图解举例说明:一永久磁石与受控制体积的铁磁材料间之相互作用。图2是图解式举例说明:具有所附着之同步次级线圈(它系接邻一线性马达初级线圈正在移动)之线性马达的支架。图2A和2B是:作用在图2之同步次级线圈上之力vs沿着图2之位置的绘图。图3是图解式举例说明:具有同步之次级线圈及所附着之迟滞次级线圈之线性马达的支架,该同步之次级线圈接邻初级线圈不移动。图3A是作用在图3之同步次级线图上之力v8沿着图3之位置的绘图。图4是图解式举例说明层合之楔形形状构件,被使用以移动在支架上之一个同步次级线圈在初级线圈的不连续部份之间,(它推进被附着至相同支架上之迟滞性次级线圈)。 |
