发明名称 MANUFACTURE OF III-V COMPOSED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH0327520(A) 申请公布日期 1991.02.05
申请号 JP19890161693 申请日期 1989.06.23
申请人 NEC CORP 发明人 MISAKI TOSHIYUKI
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址