Semiconductor diffusion furnace inner tube,申请号US19890393779-传众专利搜索

发明名称	Semiconductor diffusion furnace inner tube
摘要
申请公布号	US5024423(A)	申请公布日期	1991.06.18
申请号	US19890393779	申请日期	1989.08.15
申请人	SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.	发明人	MATSUMOTO, FUKUJI;TAWARA, YOSHIO;HAYASHI, MICHIO;YAMADA, OSAMU
分类号	H01L21/31;C23C4/10;C30B31/10;H01L21/22	主分类号	H01L21/31
代理机构		代理人
主权项
地址